Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino

Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino

Orientador : Ioshiaki Doi === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica === Made available in DSpace on 2018-07-28T11:13:54Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Teixeira_RicardoCotrin_M.pdf: 1275626 bytes, checksum: 2394ace3a137b8589a2a20b2df254d67 (MD5)...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Teixeira, Ricardo Cotrin
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 2001
Subjects:
Filmes finos
Silício
Deposição química de vapor
Online Access:TEIXEIRA, Ricardo Cotrin. Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino. 2001. 85p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260110>. Acesso em: 28 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260110

Internet

TEIXEIRA, Ricardo Cotrin. Implementação de um sistema LPCVD vertical para obtenção de filmes finos de silicio policristalino. 2001. 85p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260110>. Acesso em: 28 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260110

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