Desenvolvimento de filmes de silicio-germanio para aplicações em dispositivos MOS
Orientador: Ioshiaki Doi === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-08-07T10:45:55Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Teixeira_RicardoCotrin_D.pdf: 2331304 bytes, checksum: 01dc54b878be8180e9b3c17033a3feb1...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
[s.n.]
2006
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| Subjects: | |
| Online Access: | TEIXEIRA, Ricardo Cotrin. Desenvolvimento de filmes de silicio-germanio para aplicações em dispositivos MOS. 2006. 91p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Elétrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/260820>. Acesso em: 7 ago. 2018. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/260820 |