Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF
Orientador: Edmundo da Silva Braga === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-07-23T20:25:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Balachova_OlgaViatcheslavovna_M.pdf: 2958862 bytes, checksum: 8693c34cf...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Format: | Others |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
[s.n.]
1998
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| Subjects: | |
| Online Access: | BALACHOVA, Olga Viatcheslavovna. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1998. 52f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261739>. Acesso em: 23 jul. 2018. http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739 |
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BALACHOVA, Olga Viatcheslavovna. Caracterização da deposição e corrosão dos filmes finos de carbono amorfo hidrogenado (a-C:H) por plasma de RF. 1998. 52f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261739>. Acesso em: 23 jul. 2018.http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261739