Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD

Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD

Show other versions (1)

Orientador: Jose Alexandre Diniz === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação === Made available in DSpace on 2018-08-05T17:29:59Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Biasotto_Cleber_M.pdf: 4466326 bytes, checksum: 75500d469b99d21f5c40a3214...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Biasotto, Cleber
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 2005
Subjects:
Deposição química de vapor
Filmes finos
Nitreto de silício
Silício
Dispositivos eletromecânicos
CVD (Chemical vapor deposition)
Thin films
Silicon nitride
Silicon oxynitride
Silicon oxide
MEMS
Eletromechanical devices
Online Access:BIASOTTO, Cleber. Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD. 2005. 103p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261782>. Acesso em: 5 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261782

Internet

BIASOTTO, Cleber. Obtenção e caracterização de filmes finos de oxido, nitreto e oxinitreto de silicio por deposição ECR-CVD. 2005. 103p. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Faculdade de Engenharia Eletrica e de Computação, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/261782>. Acesso em: 5 ago. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/261782

Similar Items