Cinética ultra-rápida do plasma fotoinjetado em semicondutores

Cinética ultra-rápida do plasma fotoinjetado em semicondutores

Orientador: Antonio Carlos S. Algarte === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin === Made available in DSpace on 2018-07-25T08:44:59Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Silva_AntoniodosAnjosPinheiroda_D.pdf: 2783757 bytes, checksum: 2efdb3a703e2d78fa245c6a41...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Silva, Antonio dos Anjos Pinheiro da
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1999
Subjects:
Mecânica estatística
Relaxação (Física nuclear)
Semicondutores
Online Access:SILVA, Antonio dos Anjos Pinheiro da. Cinética ultra-rápida do plasma fotoinjetado em semicondutores. 1999. 126 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277294>. Acesso em: 25 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277294

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SILVA, Antonio dos Anjos Pinheiro da. Cinética ultra-rápida do plasma fotoinjetado em semicondutores. 1999. 126 p. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277294>. Acesso em: 25 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277294

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