Difusão de enxofre em arseneto de gálio por processamento térmico rápido

Difusão de enxofre em arseneto de gálio por processamento térmico rápido

Orientador: Francisco Carlos de Prince === Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin === Made available in DSpace on 2018-07-13T23:57:40Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Lujan_AlexandreSansigolo_M.pdf: 10867611 bytes, checksum: 79219e540ba45ae66def9899...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Lujan, Alexandre Sansigolo
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1991
Subjects:
Circuitos integrados
Semicondutores
Online Access:LUJAN, Alexandre Sansigolo. Difusão de enxofre em arseneto de gálio por processamento térmico rápido. 1991. [213]f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277798>. Acesso em: 13 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277798

Internet

LUJAN, Alexandre Sansigolo. Difusão de enxofre em arseneto de gálio por processamento térmico rápido. 1991. [213]f. Dissertação (mestrado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/277798>. Acesso em: 13 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/277798

Similar Items