Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X

Orientador: Nelson de Jesus Parada === Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin === Made available in DSpace on 2018-07-14T19:30:08Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Guimaraes_PauloSergio_D.pdf: 1880111 bytes, checksum: fd74f773a636d97c6a698466d0324131 (MD5)...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Guimarães, Paulo Sergio
Other Authors: UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS
Format: Others
Language:Portuguese
Published: [s.n.] 1979
Subjects:
Análise por agrupamento
Semicondutores
Cristais - Propriedades físicas
Pressão hidrostática
Online Access:GUIMARÃES, Paulo Sergio. Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X. 1979. 118 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/278422>. Acesso em: 14 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278422

Internet

GUIMARÃES, Paulo Sergio. Estudo da aplicação de pressão em semicondutores pelo método SCF-X. 1979. 118 f. Tese (doutorado) - Universidade Estadual de Campinas, Instituto de Fisica Gleb Wataghin, Campinas, SP. Disponível em: <http://www.repositorio.unicamp.br/handle/REPOSIP/278422>. Acesso em: 14 jul. 2018.
http://repositorio.unicamp.br/jspui/handle/REPOSIP/278422

Similar Items