Deposição e caracterização de filmes finos TaA1N por magnetron sputtering reativo

Deposição e caracterização de filmes finos TaA1N por magnetron sputtering reativo

Coordenação de Aperfeiçoamento de Pessoal de Nível Superior - CAPES === Ta-Al-N thin films were prepared using reactive magnetron sputtering, in order to verify the influence of the aluminum content on the crystalline structure, hardness and oxidation resistance. The samples were...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Oliveira, Givanilson Brito de
Other Authors: Tentardini, Eduardo Kirinus
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Universidade Federal de Sergipe 2017
Subjects:
Engenharia de materiais
Filmes finos
Magnetron sputtering
Compostos de tântalo
Nitretos de tântalo
TaA1N
Magnetron sputtering reativo
Thin films
Reactive magnetron sputtering
ENGENHARIAS::ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA
Online Access:https://ri.ufs.br/handle/riufs/3542

Internet

https://ri.ufs.br/handle/riufs/3542

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