Desenvolvimento e caracterização de uma fonte de plasma ECR para deposição de filmes finos
Neste trabalho são apresentados o projeto, construção, caraterização e utilização de um dispositivo de produção de plasmas por absorção de ondas eletromagnéticas, na frequência ciclotrônica dos elétrons - ECR (\"electron-cyclotron resonance\"), Os fundamentos teóricos dos processos fís...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade de São Paulo
2001
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-04122013-103726/ |