Medição de tensões residuais em filmes finos durante o processo de deposição.
Neste trabalho foram realizadas algumas deposições de filmes de Nitreto de Titânio sobre substrato de aço inoxidável. Foi utilizado o processo conhecido como triodo magnetron sputtering. Os parâmetros de deposição foram mantidos entre as deposições, exceto pela voltagem de bias no substrato, q...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade de São Paulo
2011
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3151/tde-09122011-105117/ |