Resistência ao cisalhamento de selante associado a dois sistemas adesivos, após contaminação salivar: influência da fotopolimerização individual e simultânea
Este trabalho teve por objetivo avaliar \"in vitro\" a resistência ao cisalhamento de um selante resinoso (Fluroshield - F) em associação com um sistema adesivo total-etch (Adper Single Bond 2-SB) e um self-etching (Clearfil S3 Bond-S3) em condições de contaminação salivar, comparando...
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| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade de São Paulo
2007
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/58/58135/tde-13122007-110447/ |