Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada.
O presente trabalho tem como objetivo desenvolver um processo de fabricação de elementos micro-ópticos utilizando-se litografia por feixe de elétrons, empregando o resiste SU-8, negativo e amplificado quimicamente, sobre substrato de Si. Para tanto, é realizado o estudo dos parâmetros do efeito...
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| Language: | Portuguese |
| Published: |
Universidade de São Paulo
2010
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/ |