Medidas de alcances e estudos de estabilidade térmica do fotoresiste AZ1350 implantado com íons de antimonio, estanho e prata

No presente trabalho implantamos Íons de Sb, Sn e Ag no fotoresiste AZ1350 (polímero novolak) e usamos a técnica de retroespalhamento de Rutherford a fim de estudar os seguintes asp ectos: a) alcances projetados dos Íons i'mplantados e os correspondentes desvios estatísticos em função da energi...

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Bibliographic Details
Main Author: Maltez, Rogério Luis
Other Authors: Behar, Moni
Format: Others
Language:Portuguese
Published: 2016
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/10183/149373