Análise e mitigação dos efeitos da eletromigração em interconexões metálicas de circuitos integrados

A redução contínua das dimensões dos circuitos integrados e, consequentemente, de suas interconexões resultam em um grande desafio para a confiabilidade dos circuitos. Novos componentes de falha são esperados pelo aumento da densidade de interconexões, número de camadas e consumo de energia. Eletrom...

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Bibliographic Details
Main Author: Paris, Lucas André de
Other Authors: Reis, Ricardo Augusto da Luz
Format: Others
Language:Portuguese
Published: 2018
Subjects:
Online Access:http://hdl.handle.net/10183/184665