Élaboration d’un simulateur de gravure par plasma de haute densité basé sur une approche cellulaire pour l’étude de profils dans divers matériaux
La réalisation de dispositifs à des dimensions sous-micrométriques et nanométriques demande une maîtrise parfaite des procédés de fabrication, notamment ceux de gravure. La réalisation des ces dispositifs est complexe et les exigences en termes de qualité et de géométrie des profils de gravure impos...
| Main Author: | |
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| Other Authors: | |
| Language: | fr |
| Published: |
2010
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://hdl.handle.net/1866/3498 |