Optimisation par recuit simulé et fabrication de masques de phase pour l'augmentation de la profondeur de champ d'un microscope
La profondeur de champ est un paramètre crucial pour la conception des systèmes optiques. Cette affirmation est particulièrement vraie dans le cas des microscopes. Plusieurs solutions ont été proposées dans le passé pour contourner les limites imposées par ce paramètre. L'ingénierie du front d&...
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| Format: | Dissertation |
| Language: | French |
| Published: |
Université Laval
2008
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| Online Access: | http://hdl.handle.net/20.500.11794/19868 |