UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発
科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度
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ndltd-NAGOYA-oai-ir.nul.nagoya-u.ac.jp-2237-130842014-03-14T03:51:33ZUHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発後藤, 俊夫河野, 明廣堀, 勝伊藤, 昌文寒川, 誠二塚田, 勉CVDLarge-scalePlasmaPolycrystalline SiliconProcessRadicalSi原子Thin FilmUHFアモルファスシリコンプラズマプロセスラジカル多結晶シリコン大口径薄膜科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度2000-03Research Paperhttp://hdl.handle.net/2237/13084ja |
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CVD Large-scale Plasma Polycrystalline Silicon Process Radical Si原子 Thin Film UHF アモルファスシリコン プラズマ プロセス ラジカル 多結晶シリコン 大口径 薄膜 後藤, 俊夫 河野, 明廣 堀, 勝 伊藤, 昌文 寒川, 誠二 塚田, 勉 UHF帯プラズマを用いた次世代大口径機能性薄膜プロセスの開発 |
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科学研究費補助金 研究種目:基盤研究(A)(2) 課題番号:09355002 研究代表者:後藤 俊夫 研究期間:1997-1999年度 |
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