Caracterização de filmes finos polimerizados por plasma a partir dos monômeros hexametildisilazano e acetileno e posteriormente expostos à descarga por barreira dielétrica /

Caracterização de filmes finos polimerizados por plasma a partir dos monômeros hexametildisilazano e acetileno e posteriormente expostos à descarga por barreira dielétrica /

Orientador: Rogério Pinto Mota === Banca: Roberto Yzumi Honda === Banca: Elver Juan de Dios Mitma Pillaca === Resumo : Dois grupos de filmes finos foram feitos por polimerização em plasma, um a partir do HMDSN e outro a partir do C2H2 sob, respectivamente, uma pressão de 4Pa e de 10Pa e em um mesmo...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Siqueira, Marcelo Barbosa.
Other Authors: Universidade Estadual Paulista "Júlio de Mesquita Filho" Faculdade de Engenharia (Campus de Guaratinguetá).
Format: Others
Language:Portuguese
Published: Guaratinguetá, 2014
Subjects:
Filmes finos.
Polimerização em plasma.
Plasma (Gases ionizados)
Descargas elétricas através de gases.
Aspereza de superfície.
Filmes finos ferroelétricos.
Online Access:http://hdl.handle.net/11449/111066

Internet

http://hdl.handle.net/11449/111066

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