溶融塩電気化学プロセスによる緻密質炭素膜の形成

溶融塩電気化学プロセスによる緻密質炭素膜の形成

本研究では比較的安価な設備を用い、低温で量産性のある炭素膜を得ることが出来る溶融塩電気化学プロセスに着目し、電解条件が炭素膜に及ぼす影響、浴温が炭素膜に及ぼす影響、基材前処理における酸活性が炭素膜と基材の密着性に及ぼす影響等を明らかにしたものである。 === 博士(工学) === Doctor of Philosophy in Engineering === 同志社大学 === Doshisha University...

Full description

Bibliographic Details
Main Authors: 湯川 晃宏, Akihiro Yukawa
Format: Others
Language:ja
Published: 2014
Subjects:
金属溶融塩
炭素膜
PR電解
陰極還元
metal molten salt
carbon film
PR electrolysis
cathodic reduction
Online Access:https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=1160
http://id.nii.ac.jp/1707/00001152/
https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=1
https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=2

Internet

https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=1160
http://id.nii.ac.jp/1707/00001152/
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