溶融塩電気化学プロセスによる緻密質炭素膜の形成

• Main Authors: 湯川 晃宏, Akihiro Yukawa
• Format: Others
• Language: ja
• Published: 2014
• Subjects: 金属溶融塩; 炭素膜; PR電解; 陰極還元; metal molten salt; carbon film; PR electrolysis; cathodic reduction
• Online Access: https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=1160; http://id.nii.ac.jp/1707/00001152/; https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=1; https://doshisha.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=1160&item_no=1&attribute_id=21&file_no=2

本研究では比較的安価な設備を用い、低温で量産性のある炭素膜を得ることが出来る溶融塩電気化学プロセスに着目し、電解条件が炭素膜に及ぼす影響、浴温が炭素膜に及ぼす影響、基材前処理における酸活性が炭素膜と基材の密着性に及ぼす影響等を明らかにしたものである。 === 博士(工学) === Doctor of Philosophy in Engineering === 同志社大学 === Doshisha University