Nanostructuration par photolithographie DUV de matériaux organiques
L'objectif principal de ce travail de thèse a été de développer un montage de lithographie à 193 nm (Deep-UV, DUV), avec comme but d'obtenir des nanostructures de période l 00 nm sur des surfaces relativement importantes (cm2) dans différents matériaux organiques. Ainsi, une partie importa...
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| Language: | fr |
| Published: |
2010
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2010MULH3888/document |