Détermination simultanée de la mise au point et de la dose d'un équipement de micro-lithographie optique
Les dimensions critiques des circuits intégrés diminuent continuellement au coursdes ans selon la loi de Moore. Les valeurs typiques sont aujourd’hui de 28nm,et seront de 22nm dans 18 mois. La photo-lithographie optique demeure encore latechnique la plus économique pour la production de masse. L’ouv...
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| Language: | fr |
| Published: |
2012
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2012GRENT125/document |