Vers une gravure plasma de précision nanométrique : simulations de dynamique moléculaire en chimie Si-Cl
Ce travail de thèse aborde le problème de la gravure de matériaux ultraminces pour la réalisation de nouvelles générations de transistors (FDSOI, FinFET) dans les dispositifs nanoélectroniques avancés. Ces transistors doivent être gravés avec une précision nanométrique pour ne pas endommager les pro...
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| Language: | fr |
| Published: |
2015
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2015GREAT010/document |