Controllable growth, microstructure and electronic structure of copper oxide thin films

Des films minces d’oxydes de cuivre (Cu2O, Cu4O3 et CuO) ont été déposés à température ambiante sur des substrats en verre et en silicium par pulvérisation magnétron réactive. Une attention particulière a été portée à l’influence des conditions de synthèse (débit d’oxygène et pression totale) sur la...

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Bibliographic Details
Main Author: Wang, Yong
Other Authors: Université de Lorraine
Language:en
Published: 2015
Subjects:
Online Access:http://www.theses.fr/2015LORR0146/document