Controllable growth, microstructure and electronic structure of copper oxide thin films
Des films minces d’oxydes de cuivre (Cu2O, Cu4O3 et CuO) ont été déposés à température ambiante sur des substrats en verre et en silicium par pulvérisation magnétron réactive. Une attention particulière a été portée à l’influence des conditions de synthèse (débit d’oxygène et pression totale) sur la...
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Language: | en |
Published: |
2015
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Online Access: | http://www.theses.fr/2015LORR0146/document |