Etude des mécanismes affectant la fiabilité des oxydes enterrés ultra-minces et des dispositifs avancés en technologie FDSOI
Avec une introduction pour le nœud technologique 28nm, l’architecture FDSOI planaire devient une alternative intéressante pour adresser les marchés microélectroniques nécessitant une faible voire très faible consommation d’énergie. Elle se différencie principalement grâce à sa technologie de polaris...
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| Language: | fr |
| Published: |
2016
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2016GREAT034 |