Caractérisation et contrôle industriel des contraintes locales en microélectronique : applications aux transistors de technologie 20 nm

De nombreuses techniques de caractérisation sont utilisées dans les industries de la microélectronique dans le but d’inspecter et analyser les circuits. Actuellement, la réduction des dimensions des transistors, l’implémentation d’alliage de silicium-germanium (SiGe) et l’ingénierie des déformations...

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Bibliographic Details
Main Author: Durand, Aurèle
Other Authors: Grenoble Alpes
Language:fr
Published: 2016
Subjects:
530
Online Access:http://www.theses.fr/2016GREAY081/document