Dépôt et caractérisation de couches minces de SiCxNy.H par CVD assistée par plasma micro-ondes ECR avec précurseurs organosiliciés
Les films à base de Si, C et N sont des matériaux multifonctionnels aux propriétés optiques, électroniques et mécaniques attractives pour des applications dans le domaine du photovoltaïque et de la microélectronique entre autres. Il existe une forte dépendance de ces propriétés par rapport à la stru...
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| Language: | fr |
| Published: |
2016
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| Online Access: | http://www.theses.fr/2016LORR0196/document |