Nouvelles approches d'utilisation de la spectroscopie de photoélectrons à rayons X (XPS) pour le développement et le contrôle des technologies FDSOI avancées
La miniaturisation et l’augmentation de la complexité des circuits intégrés avancés est l’un des axes d’évolution de l’industrie microélectronique. Pour assurer les performances du transistor, une maitrise précise des épaisseurs, de la structure cristalline et de la composition, notamment de la dose...
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | |
| Language: | fr |
| Published: |
2017
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2017GREAT081/document |