Modélisation physique des procédés de fabrication des jonctions FDSOI pour le nœud 10 nm et en-deçà

La fabrication de jonctions implique de nombreux défis technologiques à mesure que les dispositifs se rétrécissent. Afin de mitiger les problèmes liés à la diminution agressive des dimensions des transistors, des substrats SOI ainsi que du silicium-germanium (SiGe) contraint ont été introduits dans...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Payet, Anthony
Other Authors: Grenoble Alpes
Language:en
Published: 2017
Subjects:
530
Online Access:http://www.theses.fr/2017GREAY034/document