Atomic layer deposition of boron nitride

Cette thèse conclut 3 années d'études doctorales sur le "dépôt de couches atomiques (ALD) de nitrure de bore (BN)". Le but de ce travail a été d'adapter la voie des céramiques dérivées de polymères (PDC) Ã la technique ALD pour la croissance de films minces de h-BN et l'éla...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Hao, Wenjun
Other Authors: Lyon
Language:en
Published: 2017
Subjects:
540
Online Access:http://www.theses.fr/2017LYSE1311/document