ZnO micro- and nanostructures from Deep-UV photosensitive solutions for electronic and magnetic applications

ZnO micro- and nanostructures from Deep-UV photosensitive solutions for electronic and magnetic applications

Ce travail a consisté à mettre au point et étudier des formulations à base d’un précurseur photosensible de Zn (Zinc méthacrylate, ZnMAA). Déposé sous forme de film mince, ce précurseur peut être réticulé par une irradiation dans l’UV profond (193 nm). Il est montré que la réticulation est la conséq...

Full description

Bibliographic Details
Main Author: Yeh, Chun-Cheng
Other Authors: Mulhouse
Language:en
Published: 2017
Subjects:
Chimie sol-gel
ZnO
Oxyde métallique
Nanofabrication
Lithographie UV-profond
Structuration directe
Sol-gel chemistry
Metal oxide
DUV lithography
Direct-patterning
541.3
Online Access:http://www.theses.fr/2017MULH1359/document

Internet

http://www.theses.fr/2017MULH1359/document

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