Etablissement de règles de dessin pour les niveaux VIA du noeud technologique 10 nm avec le procédé d'impression DSA
La miniaturisation des circuits intégrés est largement tributaire de la lithographie optique qui va définir la taille minimale qu’il est possible d’obtenir sur un circuit. Actuellement, des moyens considérables sont mises en œuvre pour aller au-delà de la limite de résolution des systèmes optiques q...
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| Language: | fr |
| Published: |
2018
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2018GREAT006/document |