Nouvelles perspectives de métrologie dimensionnelle par imagerie de microscope électronique pour le contrôle de la variabilité des procédés de fabrication des circuits intégrés

Dans les noeuds technologiques avancés ainsi que les technologies dérivées, des règles de dessin de plus en plus aggressives sont nécessaires. Cela conduit à une complexification des structures dans les circuits intégrés actuels. De telles structures posent un défi important aux procédés de fabricat...

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Bibliographic Details
Main Author: Lakcher, Amine
Other Authors: Grenoble Alpes
Language:fr
Published: 2018
Subjects:
Meb
Sem
620
Online Access:http://www.theses.fr/2018GREAT052/document