Analyses par faisceaux d'ions de structures tridimensionnelles (3D) pour des applications en nanotechnologie
Afin d'optimiser les performances des circuits intégrés, l’industrie de la micro et nanotechnologie mène d'intenses recherches sur la miniaturisation à l'échelle sub-22nm de leurs principaux constituants que sont les transistors MOS. La réduction de la taille de grille atteint néanmoi...
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| Language: | en |
| Published: |
2019
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.theses.fr/2019GREAY015/document |