Atomlagenabscheidung von Oxidschichten auf Edelmetalloberflächen und deren Haftung
Ziel dieser Arbeit war die Untersuchung einer Passivierungsschicht auf Silber, um es vor Degradation unter Feuchte oder Schadgasen zu schützen. Dazu wurden Al\(_2\)O\(_3\) und Ta\(_2\)O\(_5\) mittels Atomlagenabscheidung (atomic layer deposition: ALD) auf polykristallinen Silberoberflächen abgeschie...
| Main Author: | |
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| Format: | Doctoral Thesis |
| Language: | deu |
| Published: |
2020
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| Subjects: | |
| Online Access: | https://opus.bibliothek.uni-wuerzburg.de/frontdoor/index/index/docId/20708 http://nbn-resolving.de/urn:nbn:de:bvb:20-opus-207085 https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:bvb:20-opus-207085 https://opus.bibliothek.uni-wuerzburg.de/files/20708/Huppmann_Sophia_Atomlagenabscheidung.pdf |