Produção e caracterização de filmes finos de TiO2
Nesse trabalho foram fabricados filmes finos de TiO2 por RF magnetron sputtering reativo sobre substrato de silício (1 0 0). A pressão parcial do oxigênio na câmara foi variada de 5 a 100% em relação ao argônio. Após a deposição os filmes foram submetidos a tratamento térmico em atmosfera de oxigêni...
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| Format: | Others |
| Language: | pt |
| Published: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
2018
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| Subjects: | |
| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-03052018-111901/ |