Estudo do mecanismo de deposição de filmes finos de nitreto de boro assistida por feixe de íons
Filmes finos de BN foram depositados em uma ou duas camadas, em temperaturas entre a temperatura ambiente e 400oC, por deposição a vapor de átomos de boro sobre substratos de Si (111) ou Si (100), com irradiação simultânea de íons de argônio e/ou nitrogênio. A energia de íons variou de 400 a 1000 eV...
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| Format: | Others |
| Language: | pt |
| Published: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
2009
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-17082009-085239/ |