Fabricação e caracterização de filmes semicondutores de InN depositados com o método de deposição assistida por feixe de íons
Neste trabalho, analisamos as propriedades estruturais, morfológicas e óticas de filmes finos de nitreto de índio, depositados em diferentes tipos de substratos (Si , safira-C, safira-A, safira-R, GaN/ safira e vidro) pelo método de deposição as s i s t ida por feixe de elétrons com energia de íons...
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| Format: | Others |
| Language: | pt |
| Published: |
Biblioteca Digitais de Teses e Dissertações da USP
2008
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| Online Access: | http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/43/43134/tde-30032009-142130/ |